據報美國擔心ASML最先進光刻機已流入中國

外電報道，美國白宮擔心，荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾(ASML)旗下最先進的極紫外光刻機(EUV)，可能已經流入中國。

《彭博》引述消息人士報道，美國商務部長盧特尼克(Howard Lutnick)，最近與ASML高管會面時表達有關的擔憂，而ASML隨即反駁盧特尼克的說法，解釋EUV設備的體積，相當於一架校巴，生產數量有限，同時需要由ASML員工持續進行維護，強調光刻機並無流入中國。

美國總統特朗普(Donald Trump)在第一任期推出限制措施，禁止ASML向中國出口先進晶片光刻機，報道指出，目前尚不清楚特朗普政府究竟想從ASML那裏得到什麼訊息，亦不清楚提供何種訊息才能打消美國政府的疑慮。