據報內地開始生產自主研發DUV光刻機

科技新聞網站《The Information》報道，中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外(DUV)光刻機，打破荷蘭ASML的壟斷地位，估計首批設備將於今年交付三大國產晶片製造商，包括中芯國際、華虹半導體以及長鑫存儲。

報道指出，國產DUV光刻機由上海一間有國資背景的企業生產，但由於事件敏感，消息人士未透露設備製造商身份，但這家公司已從上海宇量昇科技等其他中國企業抽調人員，建研發團隊 ，而初期產能亦都有限，今年計劃生產5部，明年會產量目標增加至約20部，但仍然遠低於去年ASML同類產品的交付量131部。

浸潤式DUV設備可以將電路圖案印刷到晶圓，隨著美國限制向中國出口極紫外光刻機(EUV)後，DUV是目前中國晶片製造商可用的最先進的光刻工具。

報道又說，中國亦正研發國產EUV光刻機，但目前仍處於原型機階段。

受到消息影響，ASML股價大跌百分之7。