據報中國已產EUV光刻機原型機 目標2028年生產AI晶片

路透引述消息人士指，中國科學家今年初在深圳成功製造一台極紫外光(EUV)光刻機原型機，這部原型機能夠成功產生極紫外光，但尚未生產能夠運作的晶片。 原型機由荷蘭設備製造商ASML的前工程師製造，目前正在進行測試。 政府的目標是2028年實現晶片生產，可能要到2030年才會實現量產。

極紫外光光刻機是目前全球晶片最精密的製程之一，利用極紫外光在矽晶圓上，蝕刻超精細電路，生產的晶片可用於人工智能、智慧型手機，以及驅動先進現代武器系統。

報道指，這個秘密工程項目名為「中國曼哈頓計劃」，以突顯中國在人工智能晶片技術，尋求與西方競爭。 項目由中央高層領導監督，華為扮演核心角色，協調國家科研機構、供應商和工程團隊，涉及幾千名工作人員。